3月12日-14日，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”（02重大专项）实施管理办公室在中国科学院光电研究院组织召开了 “20W 4kHz ArF曝光光源研发” 项目的正式验收会。会上，安光所承担的课题“双腔同步全固化激光电源及输出能量稳定系统研究”通过了验收。

课题的顺利验收为光刻机的零部件国产化打下基础，具有重大的直接经济效益和社会效益。光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此光刻机价格昂贵，通常在3，000至5，000万美元（据维基百科）。曝光光源作为光刻机的核心部件，在半导体装备研制中起着重要作用。

“双腔同步全固化激光电源及输出能量稳定系统研究”课题研制目标是为MOPA结构的准分子激光器提供低抖动全固化的高脉冲快放电电源，同时通过反馈控制系统实现激光输出能量稳定。课题研究突破的全固态脉冲激励技术、MOPA结构电源同步控制技术和能量稳定控制技术等，是曝光光源的核心关键技术，这些技术的掌握有利于我国光刻机研制取得突破，以及获得相关半导体制造设备的自主知识产权。

课题组多次参与项目总体单位光电研究院组织的整机联机试验，与并行课题相互支撑验证、衔接良好，研制的电源系统与激光放电腔、线宽压窄模块、光学器件等光源系统部件联合集成完成20W 4kHz ArF曝光光源系统，整机测试总体达到了技术指标，电源系统测试也达到了任务书要求指标。

同时，作为滚动支持，02重大专项2013年1月正式启动二期项目“40W 4kHz ArF曝光光源产品开发”，安光所继续承担了二期课题“高重频脉冲泵浦电源的研发”。