氧化镁（MgO）晶体

氧化镁（MgO）是极好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。本中心可提供高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的的MgO单晶，采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。

基本性质

晶体结构	立方
晶格常数	a=4.216Å
生长方法	电弧法
熔点	2852℃
密度	3.58g/cm3
莫氏硬度	5.5 Mohs
热膨胀系数	12.8×10-6/℃
介电常数	9.8
光学透过	> 90% @ 200 ～400 nm > 98 % 500 ～ 1000 nm
晶体解理面	<100>

产品规格

晶向	<100>±0.2o <110>± 0.5o <111>± 0.5o
抛光基片	外延抛光，单抛或双抛，Ra<10 Å
标准厚度	毛坯:1.0mm±0.1mm 抛光片:0.5mm±0.05mm

标准单晶基片

毛坯	φ1"×0.8mm, 1″×1″×0.8mm，10×10×0.7mm
抛光片	φ2"×0.5mm,φ1"×0.5mm, 1″×1″×0.5mm 10×10×0.5mm，10×5×0.5mm，5×5×0.5mm